【略歴】

１９７４年　東京生まれ
１９９３年　東京学芸大学附属高等学校卒業
１９９７年　東京大学工学部航空宇宙学科卒業
１９９９年　東京大学大学院工学系研究科航空宇宙工学専攻 修士課程修了。専攻は高速空気力学
同年より電機メーカー勤務。航行体や搭載機器の機械設計・構造解析に従事
２００５年　弁理士登録
国内特許事務所勤務を経て、２０１２年　レゾナンス特許事務所開設
２０１６年　ソナーレ特許事務所に改称、代表に就任
機械分野や情報処理・画像処理分野を中心として、国内および外国特許出願業務や鑑定業務を数多く担当。加えて、企業向けの特許セミナーのほか、製品開発の現場に入り込んでの開発支援や特許網の構築支援を長年にわたり担当。

【 著作 】

• 「拒絶理由通知への対応ノウハウ」（共著）サイエンスアンドテクノロジ株式会社（２００９年３月）
• 「発明の作用と効果　－より良い明細書を求めて－」パテント, Vol60, No.4（２００７年４月）
• 「審決取消訴訟に見る明細書の記載要件（機械分野）その４」（共著）パテント, Vol62, No.6（２００９年５月）
• 「レーザー加工装置事件①除くクレームと新規事項追加、特許請求の範囲の減縮、進歩性、②図面の記載に基づく補正・訂正」、知財管理2023.6月号（日本知的財産協会）
• 「マルチマルチクレーム制限が日本の審査実務および外国出願へ及ぼす影響と対応策」、知財管理2022.8月号（日本知的財産協会）

【 講演 】

• 第８回日本TRIZシンポジウム講演　“「発明戦略」のためのI-TRIZの活用”
• 株式会社情報機構 “１％の壁 を打ち破る新規事業開発”
• 株式会社情報機構 “他社特許の読み方と研究開発への活用方法”
• 株式会社情報機構 “化学分野における他社特許の“正確な”読み方と回避策”
• 株式会社情報機構 “他社特許の回避からはじまる新商品開発のための方法論”
• 株式会社情報機構“強く広い特許を取るための「発明の聞き取り」技術”
• 株式会社テックデザイン“特許明細書を読みこなすポイント”
• 株式会社テックデザイン“特許の読み方と活かし方”
• 株式会社テックデザイン“特許書類を“サクサク書く”ための必須知識とポイント・ノウハウ”
• 株式会社テックデザイン“～ＡＩユーザから見た～人工知能に関するビジネス戦略と特許戦略”
• 経済産業調査会“知財部員が知らなければならない、記載要件に関する３つの重要知識”
• 経済産業調査会““一歩上の特許明細書”の作成ノウハウ”
• 日本知的財産協会“強い特許を産み出す「発明者インタビュー」のコツと実践”

ほか多数

【 資格 】

• ソフトウェア開発技術者（２００４年）
• 画像情報技能検定　画像処理部門２級（２００４年）
• 特定侵害訴訟代理業務付記（２００９年）
• 国際TRIZ協会(MATRIZ)認定TRIZスペシャリストLevel 1（２０１２年）
• IDEATION-TRIZ（i-TRIZ）認定プラクティショナー（２０１３年）